Oferecer trifluoreto de nitrogênio, agente de limpeza química, fluorina de gás químico a laser químico de alta energia do fabricante da China

Li- (CFX) n Bateria eletro-química
Bateria de manganês de 3V de lítio
Sub bateria de 3V de lítio
Bateria de Litium Lítio Polímero
Bateria de armazenamento de energia
- Bateria de armazenamento de energia de movimento ao ar livre
Bateria alcalina de 1.5V
Isótopos estáveis
- B-11 isótopo estável
Materiais de intermediários farmacêuticos contendo fluorina
- Materiais biomédicos de perfluorooctano
Materiais de processo semicondutores
Função especial Materiais de flúor de carbono
Novos materiais de bateria de energia

China Materiais de processo semicondutores de trifluoreto de nitrogênio Fornecedores

O trifluoreto de nitrogênio na indústria de microeletrônicos é uma espécie de excelente gás de gravação de plasma, que é rachado no íon fluorino ativo durante o processo de gravação plasmática. Para a gravação plasmática de silício e nitreto de silício, o uso de trifluoreto de nitrogênio tem maior taxa de gravação e seletividade do que o uso de tetrafluoreto de carbono ou tetrafluoreto de carbono e oxigênio misto, especialmente no processo de material integrado integrado com a espessura de menos de 1.5 μM, O trifluoreto de nitrogênio possui uma excelente taxa de gravação e seletividade, além disso, não há poluição na superfície do material gravado, também é um bom agente de limpeza.